Autorius: Zita Sukackienė
Disertacijos pavadinimas: "Kobalto ir jo lydinių cheminio nusodinimo ypatumų tyrimas"
Mokslo sritis: Chemija 03 P
Mokslinis vadovas: prof. habil. dr. Eugenijus Norkus
Gynimo data: 2014-06-30
Anotacija:
Iškilus naujiems technologiniams uždaviniams, chemines dangas kobalto pagrindu, pradėta naudoti mikroelektronikoje ir mikromechanikoje siekiant sudaryti apsauginį sluoksnį vario migracijai integralinėse schemose. Varis turi mažą specifinę varžą, tačiau turi ir keletą trūkumų, tokių kaip blogas korozinis atsparumas ir aukštas difuzijos koeficientas į Si ir SiO2, bei kitas medžiagas. Šios problemos gali būti sumažintos naudojant ploną barjerinį sluoksnį, apsaugantį nuo vario difuzijos. Tam tiktų CoP bei CoB sluoksnių barjerinės savybės, kurias galima pagerinti įvedant volframą. Šiuo metu tokie tyrimai vyksta daugelyje šalių. Taip pat pastaruoju metu skiriamas didelis dėmesys naujų medžiagų paieškai, kurios būtų taikomos tiesioginiuose borohidrido kuro elementuose katalizatoriais borohidrido oksidacijos reakcijai. Mūsų darbo tikslas ištirti kobalto dangų cheminio nusodinimo glicininiuose tirpaluose ypatumus, reduktoriais naudojant natrio hipofosfitą ir morfolino boraną, bei nustatyti gaunamų dangų sudėtį ir jų panaudojimo galimybes barjerinių sluoksnių formavimui ant vario bei taikymui kuro elementų gamybai. Nustatyta, kad naudojant reduktoriumi hipofosfitą didinant tirpalų pH, CoP ir CoWP dangų nusėdimo greitis ir P kiekis jose didėja. Parinkus tinkamas sąlygas buvo gautos kokybiškos kobalto dangos, į kurias patenka nuo 2,9 iki 6,3 at.% P ir nuo 3 iki 5 at.% W. Nustatyta, kad dikarboninės rūgštys gerina tirpalų buferines savybes, pagreitina kobalto dangų nusėdimą ir didina fosforo kiekį jose. Tirpalų buferinės savybės gerėja augant -CH2- grupių skaičiui dikarboninės rūgšties grandinėje. XRD ir XPS tyrimais nustatyta, kad plonos CoWP dangos nusodintos glicininiame tirpale yra tinkamas barjeras Cu migracijai į ribojančius sluoksnius. Naudojant, reduktoriumi morfolino boraną santykinai žemoje temperatūroje (30 °C), galima gauti ir praktiškai grynas kobalto dangas, neturinčias boro, ir dangas, į kurias patenka iki 13 at.% boro. Nustatyta, kad kobalto dangose gali būti dvi boro atmainos: elementinis boras (ryšio energija 187,7 eV) ir boras deguoniniuose junginiuose (ryšio energija 193 eV). Nusodinant kobalto dangas, glicino koncentracijos didinimas kobaltavimo tirpaluose sumažina neproduktyvų morfolino borano sunaudojimą. Nanostruktūrizuoti Au/Co/Cu ir Au/CoB/Cu katalizatoriai gauti padengus Co/Cu ir CoB/Cu dangas imersiniu būdu Au nanodalelėmis gali būti naudojami tiesiogininiuose borohidrido kuro elementuose. Didžiausiu kataliziniu aktyvumu borohidrido oksidacijos reakcijai, pasižymi CoB katalizatorius su aukso įkrova 3,1 µg cm-2 ant CoB paviršiaus, kai Au nanodalelės buvo nusodintos 5 mmol l-1 Au citratinio komplekso tirpale (pH 5,0).
Metai: 2014